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栅氧层厚度与CMOS运算放大器电离辐射效应的关系 期刊论文
核技术, 2005, 卷号: 28, 期号: 3, 页码: 227-230
Authors:  陆妩;  任迪远;  郭旗;  余学锋;  郑毓峰;  张军
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Cmos运算放大器  跨导  栅氧层  氧化物电荷  界面态  
CMOS运算放大器的辐照和退火行为 期刊论文
半导体学报, 2004, 卷号: 25, 期号: 6, 页码: 731-734
Authors:  任迪远;  陆妩;  郭旗;  余学锋;  王明刚;  胡浴红;  赵文魁
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Cmos运算放大器  电离辐射  退火