超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应
郑齐文;  崔江维;  王汉宁;  周航;  余徳昭;  魏莹;  苏丹丹
2016
Source Publication物理学报
ISSN1000-3290
Volume65Issue:7Pages:258-263
Abstract

对0.18μm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺的N型金属氧化物半导体场效应晶体管(NMOSFET)及静态随机存储器(SRAM)开展了不同剂量率下的电离总剂量辐照试验研究.结果表明:在相同累积剂量,SRAM的低剂量率辐照损伤要略大于高剂量率辐照的损伤,并且低剂量率辐照损伤要远大于高剂量率辐照加与低剂量率辐照时间相同的室温退火后的损伤.虽然NMOSFET低剂量率辐照损伤略小于高剂量率辐照损伤,但室温退火后,高剂量率辐照损伤同样要远小于低剂量率辐照损伤.研究结果表明0.18μm CMOS工艺器件的辐射损伤不是时间相关效应.利用数值模拟的方法提出了解释CMOS器件剂量率效应的理论模型.

Keyword总剂量辐射效应 超深亚微米 金属氧化物半导体场效应晶体管 静态随机存储器
DOI10.7498/aps.65.076102
Indexed BySCI ; CSCD
CSCD IDCSCD:5682157
Citation statistics
Cited Times:1[WOS]   [WOS Record]     [Related Records in WOS]
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/4499
Collection中国科学院特殊环境功能材料与器件重点试验室
Affiliation中国科学院新疆理化技术研究所;中国科学院特殊环境功能材料与器件重点实验室;新疆电子信息材料与器件重点实验室;北京微电子技术研究所;中国科学院大学
First Author Affilication中国科学院新疆理化技术研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
郑齐文;崔江维;王汉宁;周航;余徳昭;魏莹;苏丹丹;. 超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应[J]. 物理学报,2016,65(7):258-263.
APA 郑齐文;崔江维;王汉宁;周航;余徳昭;魏莹;苏丹丹;.(2016).超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应.物理学报,65(7),258-263.
MLA 郑齐文;崔江维;王汉宁;周航;余徳昭;魏莹;苏丹丹;."超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应".物理学报 65.7(2016):258-263.
Files in This Item:
File Name/Size DocType Version Access License
超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量(520KB)期刊论文作者接受稿开放获取CC BY-NC-SAView Application Full Text
Related Services
Recommend this item
Bookmark
Usage statistics
Export to Endnote
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[郑齐文;崔江维;王汉宁;周航;余徳昭;魏莹;苏丹丹;]'s Articles
Baidu academic
Similar articles in Baidu academic
[郑齐文;崔江维;王汉宁;周航;余徳昭;魏莹;苏丹丹;]'s Articles
Bing Scholar
Similar articles in Bing Scholar
[郑齐文;崔江维;王汉宁;周航;余徳昭;魏莹;苏丹丹;]'s Articles
Terms of Use
No data!
Social Bookmark/Share
File name: 超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应.pdf
Format: Adobe PDF
All comments (0)
No comment.
 

Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.