0.5μm工艺CMOS有源像素传感器的总剂量辐射效应
汪波; 李豫东; 郭旗; 刘昌举; 文林; 孙静; 玛丽娅
2015
Source Publication发光学报
ISSN1000-7032
Volume36Issue:2Pages:242-248
Abstract

采用60Co-γ射线对某国产0.5μm CMOS N阱工艺CMOS有源像素传感器(APS)的整体电路和像素单元结构进行了电离总剂量辐射效应研究,重点考察了器件的饱和输出信号、像素单元输出信号、暗信号等参数的变化规律。随着辐射剂量的增大,饱和输出信号逐渐减小且与像素单元饱和输出信号变化基本一致;暗信号随总剂量的增大而显著增大。研究结果表明,0.5μm工艺CMOS APS电离总剂量辐射效应引起参数退化的主要原因是光敏二极管周围的整个LOCOS(Local oxidation of silicon)隔离氧化层产生了大量的辐射感生电荷。

Keyword电离总剂量辐射效应 Cmos有源像素传感器 饱和输出信号 像素单元结构 Locos隔离
Indexed ByEI ; CSCD
CSCD IDCSCD:5360452
Citation statistics
Cited Times:5[CSCD]   [CSCD Record]
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/4219
Collection中国科学院特殊环境功能材料与器件重点试验室
材料物理与化学研究室
Affiliation中国科学院特殊环境功能材料与器件重点试验室;新疆电子信息材料与器件重点试验室;中国科学院新疆理化技术研究所;中国科学院大学;重庆光电技术研究所
Recommended Citation
GB/T 7714
汪波,李豫东,郭旗,等. 0.5μm工艺CMOS有源像素传感器的总剂量辐射效应[J]. 发光学报,2015,36(2):242-248.
APA 汪波.,李豫东.,郭旗.,刘昌举.,文林.,...&玛丽娅.(2015).0.5μm工艺CMOS有源像素传感器的总剂量辐射效应.发光学报,36(2),242-248.
MLA 汪波,et al."0.5μm工艺CMOS有源像素传感器的总剂量辐射效应".发光学报 36.2(2015):242-248.
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