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专利名称: 催化反应器壁的含铜陶瓷涂层方法
发明人: 高林,王国平,赵伟中
申请受理号: 98125746.1
专利授权号: ZL98125746.1
申请日期: 1998-12-16
授权日期: 2002-08-21
专利权人: 中国科学院新疆理化技术研究所
专利类别: 发明
授予国别: 中国
公开日期: 2013-11-27
状态: 专利权的终止
摘要: 本发明涉及一种用于催化反应器壁的含铜陶瓷涂层方法,该方法是采用基体准备、釉浆制作、涂釉、干燥、烧成等步骤完成;其中釉浆制作中的各组份为基体剂、助溶剂、密着剂、乳浊剂、氧化剂、多元密着氧化物。通过对该方法的实践已取得良好的效果,并且具有瓷层可耐650℃以下的高温;能耐300k温差的热冲击;绝好的金属密着性;近于铁的热膨胀系数和弹性模量;结成温度850℃;双层次烧结瓷层的特点。
内容类型: 专利
URI标识: http://ir.xjipc.cas.cn/handle/365002/3185
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高林,王国平,赵伟中,催化反应器壁的含铜陶瓷涂层方法,98125746.1,2002
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